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首頁 產(chǎn)品中心 玻璃 單面研磨機

單面研磨機

DM360-4A

  • 外形尺寸:2360× 1 700× 274 0mm
  • 設(shè)備重量:約4300kg

本機主要用于砷化鎵、硅片、碳化硅、藍(lán)寶石片、鍺片、鈮酸鋰、玻璃等硬脆材料,平行平面的單面高精高效率拋光。該機采用觸摸界面及PLC 控制。為用戶提供開放式的圖形操控界面, 充分發(fā)揮機械硬件性能;該機主傳動具有傳動鏈短、穩(wěn)定可靠等特點:四個PP頭壓力單獨控制,單獨驅(qū)動, 下盤采用循化冷卻水強制冷卻, 溫度控制精確。

設(shè)備特點

  1. 主軸系統(tǒng)位于設(shè)備的下方, 由電機通過窄V帶拖動, 采用最短的傳動鏈保證了其運轉(zhuǎn)精度,下盤采用高精度軸承定位支撐,運轉(zhuǎn)剛度和精度都得到了良好的保障, 下盤軸下部裝有旋轉(zhuǎn)接頭, 用于下盤內(nèi)通冷卻水, 下盤冷卻水流量可通過電動閥比例調(diào)節(jié)。

  2. PP拋光頭位于設(shè)備的上部, P P頭的升降及加壓由氣缸實現(xiàn), 四個P P頭的升降及加壓均單獨控制; P P頭可主動旋轉(zhuǎn), 單獨控制; PP頭具備真空吸附功能, 可將陶瓷盤快速提起;

  3. 在設(shè)備的上部箱體正面設(shè)有主操作面板, 可進(jìn)行參數(shù)設(shè)定, 運行監(jiān)控等功能, 在上箱體的兩個側(cè)面分別設(shè)有小操縱板用于四個P P 頭的升降操作;

  4. 拋光液、冷卻水、清洗水及氣路等從設(shè)備的后部引入;

  5. 在下盤的外側(cè)設(shè)有可滑動的防護(hù)罩, 可防止工作液的飛濺, 減少有害氣體的溢出。


設(shè)備規(guī)格

名稱

規(guī)格

備注

  • 下盤

    直徑

    ∅914mm

  • 材料

    SUS410

  • 轉(zhuǎn)速

    1 -90rpm

  • 驅(qū)動電機

    11KW

  • 上盤

    直徑

    ∅360mm

  • 材料

    SUS304或SUS316L

  • 轉(zhuǎn)速

    1 -90rpm

  • 驅(qū)動電機

    0.4kw

  • 壓力

    0- 300kg

  • 最大加工直徑

    ∅ 300mm( 或?qū)?

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