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首頁 產(chǎn)品中心 陶瓷 單面研磨機

單面研磨機

DM360-4A

  • 設(shè)備尺寸:2250× 1 4 2 0 ×2700mm
  • 設(shè)備重量:約4300kg

本機主要用于砷化鎵、硅片、碳化硅、藍寶石片、鍺片、鈮酸鋰、玻璃等硬 脆材料,平行平面的單面高精度、高效率拋光。 該機采用觸摸界面及 PLC 控制。為用戶提供開放式的圖形操控界面,充分發(fā) 揮機械硬件性能;該機主傳動具有傳動鏈短、穩(wěn)定可靠等特點;四個 PP 頭壓力 單獨控制,單獨驅(qū)動,下盤采用循化冷卻水強制冷卻,溫度控制精確。

設(shè)備特點

1  主軸系統(tǒng)位于設(shè)備的下方,由電機通過窄 V 拖動,采用最短的傳動 鏈保證了其運轉(zhuǎn)精度,  下盤采用高精度軸承定位支撐,運轉(zhuǎn)剛度和精度都得 到了良好的保障,下盤軸下部裝有旋轉(zhuǎn)接頭,用于下盤內(nèi)通冷卻水,下盤冷卻 水流量可通過電動閥比例調(diào)節(jié).

2  PP 拋光頭位于設(shè)備的上部,PP 頭的升降及加壓由氣缸實現(xiàn),四個 PP 頭的升降及加壓均單獨控制;PP 頭可主動旋轉(zhuǎn),單獨控制;PP 頭具備真空吸 附功能,可將陶瓷盤快速提起。

3 在設(shè)備的上部箱體正面設(shè)有主操作面板,可進行參數(shù)設(shè)定,運行監(jiān)控等 功能,在上箱體的兩個側(cè)面分別設(shè)有小操縱板用于四個 PP 頭的升降操作;

4 拋光液、冷卻水、清洗水及氣路等從設(shè)備的后部引入;

5 在下盤的外側(cè)設(shè)有可滑動的防護罩,可防止工作液的飛濺,減少有害 氣體的溢出

6 設(shè)備具有水液分離機構(gòu),可實現(xiàn)拋光液及水的自由切換;

7 在下拋盤中間設(shè)有可升降的一個中間導(dǎo)輪裝置,在接液盆邊緣部位設(shè)有 四個外導(dǎo)輪裝 置,二者配合可實現(xiàn)工件盤的自動定位;

8 在橫梁上裝有紅外測溫裝置,用于下盤盤面溫度的監(jiān)測;

9 拋光液流經(jīng)或可能會接觸到的地方均采用不銹鋼材料或耐腐蝕非金屬材 料制作或進行 特殊的防腐處理,液桶采用透明 PVC 或不銹鋼制作 (按客 戶需求定) ,拋光液管路采用潔凈 PVC 制作,滿足強酸強堿強氧化劑的 使用環(huán)境。

10 具有自動沖水裝置,PP 頭將陶瓷盤提起后,可自動對工件或 PP 頭進

行噴水沖洗 (選 配);

11 界面密碼分級管理,可根據(jù)不同權(quán)限設(shè)置;

12 歷史數(shù)據(jù) (溫度、壓力、轉(zhuǎn)速、時間等) 可導(dǎo)出


設(shè)備規(guī)格

名稱

規(guī)格

備注

  • 下盤

    直徑

    拋光∅914mm

  • 材料

    SUS410

  • 轉(zhuǎn)速

    0-90rpm

  • 功率

    11KW

  • 上盤

    直徑

    ∅360mm

  • 材料

    SUS304或SUS316L

  • 轉(zhuǎn)速

    1 -90rpm

  • 功率

    0.4kw

  • 壓力

    0- 300kg

  • 最大加工直徑

    ∅ 300mm( 或?qū)?

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